真空电镀(PVD)的基本原理
发布时间:
2021-12-09 14:09
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真空电镀(PVD)的基本原理
惰性气体或反应气体电离为气体离子,气体离子因靶(所谓靶是IP电
镀的消耗材料)的负电位形成定向运动,轰击固体靶材表面进行能量
交换,使靶材获得能量溅射出靶原子或分子,在电场加速运动下产生
物理气象沉积(PVD)于所电镀产品表面,形成电镀层。
PVD表面处理特点是:
1、光泽度好
2、无镍环保
3、延长基本寿命1~2年
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